血液中含有一氧化氮八分之五加百分之十五五点二会制死吗

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高纯一氧化二氮的研制
随着我国半导体集成电路产业的快速发展,对高纯气体品种的要求越来越多,高纯一氧化二氮(N2O)作为电子气体,主要用于半导体光电器件研制生产的介质膜工艺,是直接影响光电器件质量的不可替代的关键电子气体。高纯一氧化二氮(N2O)作为关键气体源材料,作为PECVD工艺淀积SiO2膜,其掩蔽膜、钝化膜、器件抗反增透膜的形成,高纯一氧化二氮(N2O)都是必不可少的关键原材料。本文主要采用医药级一氧化二氮(N2O)为原料,通过高压常温吸附和低温下冷凝抽空相结合的方法,深度脱除一氧化二氮(N2O)中的各种杂质,研制出99.999%的高纯一氧化二氮(N2O)产品。建立一套多单元集成式深度纯化工艺装置,开展高纯一氧化二氮有害杂质分析检测方法研究,并开展了改性吸附剂对一氧化二氮杂质吸附性能的影响,得出以下结论:  1、采用多单元集成式深度纯化和低温冷凝抽空相结合工艺,以碱溶液处理后的13X分子筛、5A改性分子筛和3A改性分子筛为吸附剂,深度脱除一氧化二氮中的各有害杂质,纯化后一氧化二氮中各种有害杂质满足技术指标要求,纯度达到99.999%。  2、根据5N一氧化二氮中各种杂质的检测指标,建立了一套一氧化二氮各种杂质的分析检测方法。  3、通过超临界气化分离N2O中O2、 N2杂质的研究,试验数据表明冷凝抽空次数对氧、氮杂质的脱除有较大影响,得出高纯一氧化二氮最佳冷凝抽空次数为4次。  4、试验数据表明一氧化二氮纯化系统的工作压力对纯化一氧化二氮杂质有较大影响,当纯化系统工作压力在2.5~3.0 MPa之间能大大提高高效吸附剂对杂质H2O、CO2、NOx、 THC的深度脱除,使杂质H2O、CO2的含量小于1.0ppm,NOx、 THC的含量小于0.2ppm均达到技术指标要求。  5、考察了气体流速对吸附性能的影响,结果表明,在一氧化二氮流速低于4.0 L/h时,吸附剂对一氧化二氮H2O、CO2、NOx、THC等杂质可以达到深度脱除的效果,杂质含量满足99.999%高纯一氧化二氮技术指标要求。但是气体流速过低,将影响一氧化二氮产品的生产效率,因此高纯一氧化二氮最佳生产气体流速为4.0 L/h。
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万方数据电子出版社为什么2mol一氧化氮和1mol氧气充分反应后,有些二氧化氮会变成四氧化二氮?那得到的气体分子会小于NA吗?四氧化二氮也算是得到的气体分子吗?
No2遇热不稳定会变成N2O4,分子会减少,但是原子不变 是气体分子
标准情况下22.4L一氧化氮和11.2L氧气充分反应后得到的气体分子数为NA 这句话为什么不对?应该是N2O4不算是所得的气体分子 所以才是<NA吧
No2遇热不稳定会变成N2O4,
1mol的NO2生成0.5mol的N2O4,所以气体分子数会减少
2NO+O2=2NO2
2NO2==N2O4(可逆反应,不一定是0.5,总之会减少)
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(1)增强记忆力 造成大气污染& (2)相同质量时,天然气燃烧产生的NOx的质量少 (3)绿色出行
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科目:初中化学
&PM2.5是指大气中直径小于或等于2.5微米的颗粒物。为实现空气质量达标, 合理的做法是&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&& &&&&&&&&&&&&& A.煤炭直接燃烧&&& B.秸秆焚烧还田&&&& C.开发清洁能源&&&& D.提倡多开车
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精英家教网新版app上线啦!用app只需扫描书本条形码就能找到作业,家长给孩子检查作业更省心,同学们作业对答案更方便,扫描上方二维码立刻安装!一氧化氮的炭还原--《燃料化学学报》1983年03期
一氧化氮的炭还原
【摘要】:于外部加热的流化床(φ96mm,氮气流化)中,在温度600—850℃、床内炭藏量1—4%的范围内,考察了NO 和炭的还原反应。使用了三种不同性质的炭作还原物,对其还原性能相异的原因作了初步探讨;考察了温度和床内炭藏量对NO还原的影响,表明只要反应温度高于800℃,即使炭藏量(炭1和炭2)为1%,NO 的浓度可从入口处的1000ppm 降至出口处的100ppm 以下;对炭1与NO 的还原反应作了动力学分析,求得反应速度常数K=9.66×10~8 e(-31700/RT)。
【作者单位】:
【关键词】:
【正文快照】:
煤的流化燃烧技术可适用于不同煤种,且对环境所造成的污染,特别是50:和NO二污染较其他方法为轻,故被认为是一种有希望取代传统的燃煤技术以生产蒸汽和发电的方法而日益受到人们的重视。国内外已有许多流化锅炉建成并投入运行。 美国环保局现行标准规定燃煤锅炉的NO二排放量相
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