（1）①SiHCl3+H2= Si+3HCl　
②H2O，发生爆炸。（2）BC（3）2MgO?3SiO2?NH2O+4HCl2MgCI2+3SiO2+（n+2）H2O
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科目：高中化学
硅单质及其化合物应用范围很广．（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备高纯硅．Ⅰ．高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；Ⅱ．粗硅与干燥的氯气在450～500℃条件下反应制得SiCl4；Ⅲ．SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1&100～1&200℃条件下反应制得高纯硅．已知SiCl4沸点为57.6℃，能与H2O强烈反应．1mol&H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2kJ．请回答下列问题：①第Ⅲ步反应的热化学方程式为&Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-12H2（g）+SiCl4（g）Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1．②整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下．SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是H2SiO3（或H4SiO4）和HCl；H2还原SiCl4过程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸．（2）二氧化硅被大量用于生产玻璃．工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高温下完全反应时放出CO2&44kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示，则其中x=4．
科目：高中化学
（2008?广东）硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式&Si+3HClSiHCl3+H2Si+3HCl．②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是高温下，H2遇O2发生爆炸．（2）下列有关硅材料的说法正确的是ABCD（填字母）．A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓．
科目：高中化学
硅单质及其化合物应用范围很广．三氯硅烷（SiHCl3）还原法是目前工业制高纯度硅的主要方法，生产过程如下图：根据题意完成下列备题：（1）硅在元素周期表的位置，其最外层有种能量不同的电子．（2）硅的气态氢化物为SiH4，其空间构型为；三氯硅烷中某些元素最高价氧化物对应水化物的酸性＞（填化学式）．（3）写出三氯硅烷与氢气反应的化学反应方程式：．（4）自然界中硅酸盐种类多，结构复杂，通常用二氧化硅和金属氧化物的形式来表示其组成．如正长石（KALSi3O8），氧化物形式为：．
科目：高中化学
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式_________________；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________。（2）下列有关硅材料的说法正确的是__________________（填字母）。A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高E.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。
科目：高中化学
来源：2011届福建省厦门外国语学校高三11月月考化学试卷
题型：填空题
硅单质及其化合物应用范围很广。（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450&℃～500&℃&反应制得SiCl4Ⅲ.&&SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100&℃～1200&℃&反应制得纯硅已知SiCl4沸点为57.6&℃，能与H2O强烈反应。1&mol&H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2&kJ。请回答下列问题：①&第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&，第Ⅲ步反应的热化学方程式是&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&。②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是&&&&&&&&&&；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是&&&&&&&&。（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283&kg在高温下完全反应时放出CO2&44&kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝&&&&&&&&&。无氧参加的化合反应_百度作业帮
无氧参加的化合反应
无氧参加的化合反应
氢气与氯气结合生成氯化氢举例说明化合反应不一定是氧化反应要求有化学方程式和理由_百度作业帮
举例说明化合反应不一定是氧化反应要求有化学方程式和理由
举例说明化合反应不一定是氧化反应要求有化学方程式和理由
碱性氧化物＋酸性氧化物→含氧酸盐大多数碱性氧化物和酸性氧化物,无化合价改变
H2+S=H2S 无氧原素参加反应糖发酵进行无氧分解的化学方程式和甲烷、水蒸气在高温下反应的化学方程式.有一种技术可以将糖（通式为Ca(H2O)b)发酵进行无氧分解,生成两种化合物,其中一种物质是沼气的主要成分.1.写出_百度作业帮
糖发酵进行无氧分解的化学方程式和甲烷、水蒸气在高温下反应的化学方程式.有一种技术可以将糖（通式为Ca(H2O)b)发酵进行无氧分解,生成两种化合物,其中一种物质是沼气的主要成分.1.写出
糖发酵进行无氧分解的化学方程式和甲烷、水蒸气在高温下反应的化学方程式.有一种技术可以将糖（通式为Ca(H2O)b)发酵进行无氧分解,生成两种化合物,其中一种物质是沼气的主要成分.1.写出糖发酵进行无氧分解的化学方程式__________________.工业上生产大量氢气的一种方法是用甲烷和水蒸气在高温下反应,这个反应的另一产物是二氧化碳：________________________.
2 Ca(H2O)b==bCH4+（2a－b）CO2CH4+2H2O==CO2+2H2有氧呼吸 无氧呼吸 光合作用的化学方程式与反应场所 复制党走啊_百度作业帮
有氧呼吸 无氧呼吸 光合作用的化学方程式与反应场所 复制党走啊
有氧呼吸 无氧呼吸 光合作用的化学方程式与反应场所 复制党走啊
《有氧呼吸 》 第一阶段 细胞质基质 C6H12O6(葡萄糖)=4[[H]{（还原氢）+2C3H403（丙酮酸）+2ATP第二阶段 线粒体基质 2C3H4O3（丙酮酸）+6H2O（水）===20[H]（还原氢）+6CO2(二氧化碳)+2ATP第三阶段线粒体内膜 24[H]（还原氢）+6O2（氧气）=12H2O(水)+大量能量34ATP总反应式 C6H12O6+6H2O+6O2=12H2O+6CO2+36ATP 《无氧呼吸 》 细胞质基质 动物C6H12O6=C3H6O3（乳酸）+ 少量能量 细胞质基质 植物C6H12O6=C2H5OH(酒精)+少量能量 第一阶段 类囊体薄膜H2O=H+O2+ATP第二阶段 细胞质基质 ATP+H（还原氢）+CO2（二氧化碳）=（CH2O）+O2（氧气）不要求配平总方程式 6CO2(二氧化碳)+12H2O(水)=C6H12O6(葡萄糖)+6H2O(水+)6O2(氧气) 备注：温度对有氧呼吸（酶）影响较大 .光照和二氧化碳浓度对光合作用作用影响较大 .
有氧呼吸：
C6H12O6+O2=活细胞
酶=H2O+CO2+能量（大量）
反应场所：细胞体内 无氧呼吸：
动物C6H12O6=活细胞
酶=乳酸(C3H6O3)+能量(少量)
反应场所：细胞体内
植物C6H12O6=活细胞
酶=酒精（C2H5OH）+能量(少量)
反应场所：细胞体内光合作用：CO2+H2O...}