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时间：2020-05-20 11:12
-种制备钨和铝硅掺杂工艺两种常鼡二硅化钼粉末的方法,属于难熔钨钼硅化物粉末的制备技术领域工艺为:将0mol％-10mol％钨、0mol％～17mol％铝、23mol％～33mol％钼和50mol％-67mol％硅粉末混合均匀,然后装入密封的球磨罐中,接着把球磨罐抽真空到-0．1--0．001MPa,然后充入氩气,进行50～200min的球磨。将球磨后的粉末在600—1000qC、真空度为-0．1--0．001MPa条件下进行40～120min退火处理,得到鎢和铝硅掺杂工艺两种常用二硅化钼粉末本发明的优点在于:球磨时间短,省时、节能、工艺简单。
两种形式,结晶硅又称金属硅或工業硅,电阻率为2140Ω.m,而无定形硅则具有高绝缘的特性,参杂后的晶片的电阻则要看所掺入的物质,以及掺入物质的类型和质量有关,P型晶片掺入的是3族元素
,N型晶片掺入的是5族元素,一般来说,掺入杂质的质量越多,单位体积内形成的载流子就越多,则半导体的电阻率越低,它的导电能力越强,即电阻越小.
这么说,但是其实我觉得这个比较没什么意义,因为半导体类的电阻受温度和体积,以及纯度影响非常大,所以
说不同条件下的比较有意义嗎?
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的水蒸气进入烧瓶与PCl 3 反应(3)排尽装置中的空气,防止白磷自燃 先
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