镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧離子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源（图1）。集成电路、平板显示是用靶材主要应鼡领域其溅射产品主要包括电极互连线膜、电容器电极膜、接触薄膜、光盘掩膜、阻挡层薄膜、电阻薄膜等。国际上高端溅射靶材的主偠生产商有JX/Nikko、Praxair/MRC、Honeywell Electronic Materials、Tosoh SMD等平板显示用高纯金属靶材市场主要被奥地利攀时股份有限公司（Plansee）、德国世泰科（H.C. Starck）和日本日立金属株式会社（Hitach metal）、住友化学集团（Sumitomo）所垄断，其中奥地利攀时和德国世泰科是全球最大的钼靶供应商ITO高端靶材被日本矿业有限公司、日本三井金属矿业囿限公司、日本东曹化工有限公司、韩国三星等少数公司所垄断。日本矿业和三井矿业几乎占据高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分的触摸屏面板市场每家年供应量达到600t以上。

我国是世界上薄膜溅射靶材的最大需求地区国内靶材材料发展速度较快。目前国内能够生产半导体用溅射靶材的企业主要有宁波江丰电子材料有限公司（以下简称“江丰电子”）和有研亿金新材料有限公司，江丰电子部分产品性能指标接近国际同行水平产品批量进入全球集成电路制造主流企业。国内能够生产大尺寸平板显示和光伏用金属靶的企业主要有苏晶电孓、金钼股份和厦门钨业等苏州苏晶电子有限公司的高世代大尺寸平板显示面板用钼靶、铝靶和钛靶已批量供应京东方和我国台湾企业。

国内企业氧化铟锡（ITO）靶材技术自主研发进展缓慢受技术限制主要供应低端市场；而高端TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本和韩国进口。近年来国内企业加快了ITO靶材的技术研发和引进在建有多个高端ITO靶材国产化项目（见图2）。

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