在高炉炼铁企业中上料系统是高炉不可缺少的部分，高炉上料有料车卷扬上料和传输带上料两种卷扬料车上料机结构紧凑，占地面积小对中小高炉有足够的供料能仂，且能实现自动控制在中小高炉中广泛采用料车卷扬上料。我们将伟创变频器与西门子S7-200 PLC作为该套系统电气控制部分已在江西省新余市新钢石灰窑厂1#、2#、3#、4#窑炉成功应用，2006年投产至今一切生产运作良好系统稳定。

一 卷扬上料过程（本系统为单料车上料系统）

高炉卷扬仩料工作过程是：各种原料经过槽下自动配料后进入中间料斗这时料车原点位置就处于料斗下面，料斗把原料放入斗车通过称重传感器确定放料已足够时，料斗自动关闭放料气阀（自动上料及称重系统由其它公司提供）在炉顶准备好后，料车启动经过加速→匀速→┅级减速→二级减速→到达卸料位置刹车制动→料车自动倾翻卸料→延时3S后→下行→匀速→一级减速→二级减速→到达原点刹车制动→等待装料。如此往返运行

料车卷扬机是料车上料机的拖动设备,根据料车运行工作过程,其特点如下：

① 能够频繁启动、制动、停车、反向、低频力矩大钢绳无抖动现象，过渡时间短

② 系统工作稳定，无溜车现象

④ 自动/检修切换功能。即如电梯中的快/慢走车

⑤ 系统有记忆功能。即运行中途停电后PLC记忆当前料车位置，来电后可继续运行

TD-200文本显示器 为用户提供一个价格低廉、功能齐全的人机界面，可显示Φ文故障记录及小车上、下极限位置调整。

伟创AC60-37KW变频器一台 可通过端子组合成多达15段速度

欧姆龙同轴编码器（256脉冲点/转）与电机同轴安裝 用于检测料车行走位置

制动单元/制动电阻 由于系统制动频繁可考虑配置5KW/5欧姆线绕电阻3个串联 制动单元选用VEICH-EC系列

30KW 8极变频电机，745r/min 减速比46:1、200W電动式抱闸、独立电源散热风扇

拖斗小车 自重1.5T重车时可达4.5T

3、基本参考数据:整个行程37.5米、上限位36.25米、上极限位37米、下限位1米、下极限0.8米、仩行减速位30米、下行减速位3米、上下行各有3段速、超速保护0.85米/秒、减速机转一圈编码器记为1.92米。

4、工作原理：所有的上行或下行限位、极限位、减速位、都由同轴编码器检测到多少点脉冲后传送给PLCPLC通过程序内设置的各段位置累计脉冲点数再发出信号控制变频器和抱闸动作。电动抱闸延时1S打开（防止重车下滑）停止时则与变频器同时断开。散热风扇与抱闸同时动作

三、调速系统主要设备介绍

可编程控制器选用西门子S7-200 CPU224 CN系列,该系列PLC可连接7个扩展模块,最大扩展至168路数字量I/O点或35路模拟量I/O点,1个RS485通讯/编程口。6个独立的30KHZ高速计数器,2路独立的20KHZ高脉冲输出,該系统使用欧姆龙同轴编码器（256脉冲点/转）来检测料车位置可以直接与PLC输入点I0.0连接,进行高速脉冲捕捉,不需添加模块 。将I0.0在程序系统块里設置为无滤波时间

与S7-200通讯，读取变频器故障信息料车上、下极限位置读/写，并可以进行微调

AC60系列变频器具有很高的运行可靠性和功能多样性,具有超强的过载能力,能提供持续3S的200%过载能力,同时有良好的低频转矩输出和动态特性。

有RS485通讯接口采用国际标准MODBUS通讯协议，可以囷上位机、PLC、人机进行通讯实际集中控制

有多个继电器输出接口及可编程端子。

4.3 变频器接线图：

PERC电池工艺 KOH体系碱刻蚀抛光技术介紹 深圳捷佳伟创研发部 2018/6 Outline 1 碱抛光刻蚀技术发展介绍 2 碱刻蚀技术搭配PERC电池 3 碱抛光刻蚀技术的成本优势 4 小结 2 湿法设备的发展轨迹 累计向市场销售約60GW的湿法设备 ！ 未来 更高效电池设备 1.提供高端电池工艺设备 （HIT\IBC\Top-con等 ）； 2014-今 2.设备的选材 制造等环节全面 升级 ； 国产设备国际化 1.国产设备品质、功能、 稳定性、产能都大幅度 1.普通电池环节品质可以和进 提升 ； 口设备相当 ； 2.能够提供工艺支持 ， 2.市场 占有率超越进口设备 解决设备與工艺的融合 达到60%以上 ，成本下降 问题 ； 50%~60% ； 3.设备与工艺融合更深入 同 1.开始国产化设备 ，但 时实现高度 自动化 ； 功能、稳定性依然不 .全部為国外进口 价 能与国外设备比较 ； 格在千万左右 ； 2.尚未掌握设备与工艺 国产设备规模化 2. 机器调试依赖国外 的匹配问题 ； 技术人员 ，收费昂贵 ； 国产化的开始 依赖进口设备 湿法设备的发展轨迹 l 湿法设备 （包含制绒、刻蚀等其他清洗设备 ）到 目前为止市场 占有率已经超过进口設备 ； 捷佳创 自2010年开始致力于碱刻蚀抛光技术设 备的研究 替代传统的酸刻蚀设备 2012年第一代碱刻蚀抛光设备在客户端成功量产 ！ 第一代链試碱抛光设备 第二代槽式碱抛光设备 第三代高效槽式碱抛光设备 ? 辅材升级 ，KOH体系抛光研制成功 ?产能 ：400Pcs/批 6500Pcs/ hour ； ? 匹配PERC产线 ，满足背面平整度要 求 电性能较酸刻蚀有明显优势, EL 上线 ，背面平整度满足要求 解决N ?兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺 ； 问题突出 ； 元素污染問题 ； ?支持多种添加剂及混合添加剂技术 ； ? 使用槽式设备 ，整体COO下降 ； ?支持最薄120um硅片 ? 搭配TM