氧化硅沉积、mesa干蚀刻激光划片、裂片,研磨衬底光电参数测试以及分选等等)的技术。
芯片的亮度主要由外延片的品质决定后期制作只能将其光电性能等小幅提高。
因此能达到什么层次不好说,那么高深的偶也不懂
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氧化硅沉积、mesa干蚀刻激光划片、裂片,研磨衬底光电参数测试以及分选等等)的技术。
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明的国内的芯片三安的做的比較亮(宣传的是超高亮度全色系)。
光色:在外延片制造的时候讲究命中率就是说命中波段与预期设计之间的量化关系。光色纯正光銫波段窄,其光色质量越好
寿命:关乎光学性能和电学性能。
光衰:芯片的结温越高光衰越大;散热越好,光衰越小
本回答由电脑網络分类达人 刘聪聪推荐
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