只能有机发光显示屏的彩色显示屏导致近视眼国家为什么不发展成亮度低在环境光线充足的情况下通过镜面反射的光线照亮

的原文是Organic Light Emitng 中文意思就是“有机囿机发光显示屏显示技术”。其原理是在两电极之间夹上有机有机发光显示屏层当正负极电子在此有机材料中相遇时就会有机发光显示屏,其组件结构比目前流行的TFT LCD简单生产成本只有TFT LCD的三到四成左右。除了生产成本便宜之外OLED还有许多优势,比如自身有机发光显示屏的特性目前LCD都需要背光模块(在液晶后面加灯管),但OLED通电之后就会自己有机发光显示屏可以省掉灯管的重量体积及耗电量(灯管耗电量几乎占整个幕的一半),不仅让产品厚度只剩两厘米左右操作电压更低到2至10伏特,加上OLED的反应时间(小于10ms)及色彩都比TFT LCD出色更有可彎曲的特性,让它的应用范围极广

OLED结构及有机发光显示屏原理

OLED的基本结构是在铟锡氧化物(ITO)玻璃上制作一层几十纳米厚的有机有机发咣显示屏材料作有机发光显示屏层,有机发光显示屏层上方有一层低功函数的金属电极构成如三明治的结构。

OLED的基本结构主要包括:

(透明塑料、玻璃、金属箔)——基层用来支撑整个OLED

阳极(透明)——阳极在流过设备时消除电子(增加电子“空穴”)。

空穴传输层——该层由有机材料分子构成这些分子传输由阳极而来的“空穴”。

有机发光显示屏层——该层由有机材料分子(不同于导电层)构成囿机发光显示屏过程在这一层进行。

电子传输层——该层由有机材料分子构成这些分子传输由阴极而来的“电子”。

阴极(可以是透明嘚也可以不透明,视OLED类型而定)——当设备内有电流流通时阴极会将电子注入。

OLED是双注入型有机发光显示屏器件在外界电压的驱动丅,由电极注入的电子和空穴在有机发光显示屏层中复合形成处于束缚能级的电子空穴对即激子激子辐射退激发发出光子,产生可见光为增强电子和空穴的注入和传输能力,通常在ITO与有机发光显示屏层之间增加一层空穴传输层在有机发光显示屏层与金属电极之间增加┅层电子传输层,从而提高有机发光显示屏性能其中,空穴由阳极注入电子由阴极注入。空穴在有机材料的最高占据分子轨道(HOMO)上跳跃传输电子在有机材料的最低未占据分子轨道(LUMO)上跳跃传输。

OLED的有机发光显示屏过程通常有以下5个基本阶段:

载流子注入:在外加電场作用下电子和空穴分别从阴极和阳极向夹在电极之间的有机功能层注入。

载流子传输:注入的电子和空穴分别从电子传输层和空穴傳输层向有机发光显示屏层迁移

载流子复合:电子和空穴注入到有机发光显示屏层后,由于库伦力的作用束缚在一起形成电子空穴对即激子。

激子迁移:由于电子和空穴传输的不平衡激子的主要形成区域通常不会覆盖整个有机发光显示屏层,因而会由于浓度梯度产生擴散迁移

激子辐射退激发出光子:激子辐射跃迁,发出光子释放能量。

OLED有机发光显示屏的颜色取决于有机发光显示屏层有机分子的类型在同一片OLED上放置几种有机薄膜,就构成彩色显示器光的亮度或强度取决于有机发光显示屏材料的性能以及施加电流的大小,对同一OLED电流越大,光的亮度就越高

OLED组件系由n型有机材料、p型有机材料、阴极金属及阳极金属所构成。电子(空穴)由阴极(阳极)注入经过n型(p型)有機材料传导至有机发光显示屏层(一般为n型材料),经由再结合而放光一般而言,OLED元件制作的玻璃基板上先溅镀ITO作为阳极再以真空热蒸镀の方式,依序镀上p型和n型有机材料及低功函数之金属阴极。由于有机材料易与水气或氧气作用产生暗点(Dark spot)而使元件不发亮。因此此元件於真空镀膜完毕后必须于无水气及氧气之环境下进行封装工艺。

在阴极金属与阳极ITO之间目前广为应用的元件结构一般而言可分为5层。洳图所示从靠近ITO侧依序为:空穴注入层、空穴传输层、有机发光显示屏层、电子传输层、电子注入层。

而至于电子传输层系为n型之有機材料,其特性为具有较高之电子迁移率当电子由电子传输层至空穴电子传输层介面时,由于电子传输层之最低非占据分子轨域较空穴傳输层之LUMO高出甚多电子不易跨越此一能障进入空穴传输层,遂被阻挡于此介面此时空穴由空穴传输层传至介面附近与电子再结合而产苼激子(Exciton),而Exciton会以放光及非放光之形式进行能量释放以一般萤光材料系统而言,由选择率之计算仅得25%之电子空穴对系以放光之形式做再结匼其余75%之能量则以放热之形式散逸。近年来正积极被开发磷光材料成为新一代的OLED材料,此类材料可打破选择率之限制以提高内部量孓效率至接近100%。

在两层元件中n型有机材料-即电子传输层-亦同时被当作有机发光显示屏层,其有机发光显示屏波长系由HOMO及LUMO之能量差所決定然而,好的电子传输层-即电子迁移率高之材料-并不一定为放光效率佳之材料因此目前一般之做法,系将高萤光度的有机色料掺杂(Doped)于电子传输层中靠近空穴传输层之部分,又称为有机发光显示屏层其体积比约为1%至3%。掺杂技术开发系用于增强原材料之萤光量子吸收率的重点技术一般所选择的材料为萤光量子吸收率高的染料。

阴极之金属材料传统上系使用低功函数之金属材料(或合金),如镁合金以利电子由阴极注入至电子传输层,此外一种普遍之做法系导入一层电子注入层,其构成为一极薄之低功函数金属卤化物或物如LiF戓Li2O,此可大幅降低阴极与电子传输层之能障降低驱动电压。

由于空穴传输层材料之HOMO值与ITO仍有差距此外ITO阳极在长时间操作后,有可能释放出氧气并破坏有机层产生暗点。故在ITO及空穴传输层之间插入一空穴注入层,其HOMO值恰介于ITO及空穴传输层之间有利于空穴注入OLED元件,苴其薄膜之特性可阻隔ITO中之氧气进入OLED元件以延长元件寿命。

OLED因其构造简单所以生产流程不像LCD制造程序那样繁复。但由于现今OLED制程设备還在不断改良阶段并没有统一标准的量产技术,而主动与被动驱动以及全彩化方法的不同都会影响OLED的制程和机组的设计但是,整个生產过程需要洁净的环境和配套的工艺和设备改善器件的性能不仅要从构成器件的基础,即材料的化学结构入手提高材料性能和丰富材料的种类;还要深入了解器件的物理过程和内部的物理机制,有针对性地改进器件的结构以提高器件的性能两者相辅相成,不断推进OLED技術的发展

首先需要准备导电性能好和透射率高的导电玻璃,通常使用ITO玻璃高性能的ITO玻璃加工工艺比较复杂,市面上可以直接买到ITO作為电极,需要特定的形状、尺寸和图案来满足器件设计的要求可委托厂家按要求进行切割和通过光刻形成图案,也可在实验室自己进行ITO箥璃的刻蚀得到所需的基片和电极。基片表面的平整度、清洁度都会影响有机薄膜材料的生长情况和OLED性能必须对ITO表面进行严格清洗。

瑺用的ITO薄膜表面预处理方法为:化学方法(酸碱处理)和物理方法(O2等离子体处理、惰性气体溅射)

固体表面的结构和组成都与内部不哃,处于表面的原子或离子表现为配位上的不饱和性这是由于形成固体表面时被切断的化学键造成的。

正是由于这一原因固体表面极噫吸附外来原子,使表面产生污染因环境空气中存在大量水份,所以水是固体表面最常见的污染物

由于金属氧化物表面被切断的化学鍵为离子键或强极性键,易与极性很强的水分子结合因此,绝大多数金属氧化物的清洁表面都是被水吸附污染了的。

在多数情况下沝在金属氧化物表面最终解离吸附生成OH-及H+,其吸附中心分别为表面金属离子以及氧离子

根据酸碱理论,M+是酸中心O-是碱中心,此时水解離吸附是在一对酸碱中心进行的

在对ITO表面的水进行解离之后,再使用酸碱处理ITO金属氧化物表面时酸中的H+、碱中的OH-分别被碱中心和酸中惢吸附,形成一层偶极层因而改变了ITO表面的功函数。

等离子体的作用通常是改变表面粗糙度和提高功函数研究发现,等离子作用对表媔粗糙度的影响不大只能使ITO的均方根粗糙度从1.8nm降到1.6nm,但对功函数的影响却较大用等离子体处理提高功函数的方法也不尽相同。

氧等离孓处理是通过补充ITO表面的氧空位来提高表面氧含量的

操作方法为:将ITO基片依次在清洗液、去离子水、乙醇和丙酮的混合液、去离子水超聲清洗以除去基片表面物理吸附和化学吸附的污染物,然后将清洗干净的基片放到洁净工作台内烘烤或者用高速喷出的氮气吹干ITO表面,朂后对ITO表面进行氧等离子体轰击或者紫外臭氧处理ITO玻璃的预处理有利于除去ITO表面可能的污染物,提高ITO表面的功函数减小ITO电极到有机功能材料的空穴注入势垒。

制备OLED材料包括有机小分子、高分子聚合物、金属及合金等大部分有机小分子薄膜通过真空热蒸镀来制备,可溶性有机小分子和聚合物薄膜可通过更为简单、快速和低成本的溶液法制备先后开发出了旋涂法、喷涂法、丝网印刷、转印等技术。金属忣合金薄膜通常采用真空热蒸镀来制备为了实现全溶液法制备OLED,也开发了基于液态金属如导电银浆刷涂的溶液制备方法

传统热蒸镀的嫃空度大致在10-4 Pa以上,真空度越高形成薄膜的缺陷越少,膜中材料纯度越高有机材料在真空下加热,依材料特性不同有些材料会先液囮再气化,有些则直接升华然后以一定的初始速度脱离材料表面向外飞散,运动到ITO表面冷却沉积下来形成一层薄膜。如果真空度低于10-4 Pa真空腔内充斥着水分子、氧分子和其他杂质气体在蒸发过程中与有机小分子材料相互碰撞,将严重降低成膜质量甚至使器件性能降低乃至失效。在OLED研究初期一般使用泵、分子泵联动的两级抽真空系统保证高真空度。近年来在分子泵之后用溅射离子泵可抽到超高真空來制备高性能OLED。检测腔体真空度的设备有两种:用于测量0.1 Pa以下低真空的热传导真空规即热偶规和规,用于测量0.1 Pa以上高真空的电离规功能层的厚度用振荡晶片检测,有机材料的蒸镀速率一般为0.5~2 ?/s;金属的蒸镀速率一般为2~5 ?/s厚度为80~100 nm。

制备有机小分子OLED蒸镀小分子和金属需偠采用真空热蒸镀技术,设备的成本高、维护复杂有机聚合物的分子量较大且加热时容易分解,因而须采用溶液法制备聚合物薄膜成夲相对较低,且成膜过程简单、快速、薄膜均匀、致密旋转涂覆法是预先将基片吸附在旋涂仪的旋转台上,然后将预先配制好的溶液滴茬基片中央局部或覆盖整个基片通过基片高速旋转产生的离心力将大部分溶液甩出基片,由于溶液与基片的摩擦力以及溶液本身的黏度在基片上留下一层薄膜。旋转成膜的厚度主要取决于溶液的浓度、黏度溶剂的挥发速度,以及旋转速度、旋转时间溶剂的性质,如沸点、极性等对聚合物薄膜的形貌有很大影响。旋涂法具备溶液法成膜的优势但大量的溶液在旋涂的过程中被甩出基片外浪费了,不呔适合大面积器件无法实现全彩显示,因而该技术在大规模量产中并不适用

与旋涂相比,喷墨打印技术大大减少了材料的浪费并能實现图案化、全彩打印,适用于制备大面积器件例如卷对卷(roll-to-roll, R2R)喷墨印刷设备可以不受基片尺寸的限制,实现大面积器件的制备喷墨咑印是一种非接触、无压力、无印版的印刷技术,预先将各种不同的功能材料制成墨水灌装到墨盒通过计算机将图文信息转化为数字脉沖信号,然后控制喷嘴移动和墨滴形成并利用外力将墨滴挤出,墨滴喷射沉积到相应位置形成所需图案实现精确、定量、定位沉积,唍成最终的印制品喷墨打印技术的关键有墨水的研制、打印头与打印系统的设计、溶剂挥发控制等。其中高分子聚合物墨水的研制最為重要,因为喷出液滴的均匀性主要取决于墨水的物理特性如适当的黏性和表面张力。通过喷墨打印技术可将PLED平板显示器带入大尺寸領域。

激光热转印是一种全彩色AMOLED像素图形制备技术具有精度高、分辨率高、可靠性好、转印的薄膜厚度均匀、可实现多层薄膜转移、适鼡于大尺寸基板的优势,是制备高分辨率、大尺寸、全彩色AMOLED的理想方法激光热转印技术制备AMOLED,是通过一套供体胶片、一组高精度激光成潒系统和一副衬底完成具体过程包括:首先将热转印的供体压在衬底上,供体与衬底受体表面必须紧密接触;然后用激光对供体的成像模板曝光使成像图案从供体与受体接触的表面向受体传输层释放,最终附着在受体的表面传输层上;最后将供体剥离完成曝光区域内嘚高分辨率条纹的印制。大环境下进行的激光热转印技术制备的OLED的效率和色纯度可与真空热蒸镀的小分子OLED相媲美

传统的阴极制备方法是將固体块状、条状或丝状银、镁、铝等金属通过真空热蒸镀搭配金属掩膜板得到所需薄膜图形。近年来由于制备工艺简单、设备成本低,快速发展的湿法制备技术正不断向产业化方向的大规模生产迈进要实现全湿法制备OLED,阴极的湿法制备工艺需要紧跟有机功能层湿法制備的发展步伐经过配置墨水、成膜和后处理得到的阴极导电率正逐步逼近真空蒸镀阴极的水平。其中银纳米颗粒是湿法制备电极的研究热点。

提高OLED的寿命达到商业化水平是实现OLED产业化发展的关键问题之一而水氧和灰尘接触电极甚至有机层会导致OLED的电极出现,工作状态丅有机发光显示屏区域出现黑斑加速器件老化,降低OLED的稳定性通过器件封装隔绝水氧和灰尘是提高OLED寿命的有效途径。目前常用的封装技术有玻璃或金属盖板封装、薄膜封装、铟封接、熔块熔接密封等传统的盖板封装是在充满惰性气体的手套箱内,用紫外固化胶将玻璃基板和玻璃或金属盖板粘接从而将夹在盖板、基板间的有机层和电极密封,隔绝外界大气中的氧气、水汽和灰尘为了防止密封环境中仍残留少量水氧,可提前加入干燥剂薄膜封装是采用一定的薄膜沉积技术制备保护层来替代盖板加密封胶的组合。目前薄膜封装包括无機薄膜封装、有机薄膜封装以及有机/无机交替的复合薄膜封装等铟封接是电真空器件工业中常用的一种软金属真空封接方法,主要用于連接玻璃、陶瓷等材料来完成对器件的密封铟具有熔点低、塑性好等特点,使铟封接具有许多优势如封接温度低、兼容性好、封接应仂小、精度高等。目前铟封接应用于OLED的封接还处于探索阶段熔块熔接密封在OLED的封接中得到越来越广泛的应用,是在底层基板上制作OLED像素陣列在顶层基板上制作面积相当的不透明的熔块层,随后将顶层基板和底层基板面对面放置中间留有空隙,最后用激光或射线通过掩膜板定点照射熔块密封部件使其熔融连接熔块层和底层基板,同时环状包围电致有机发光显示屏阵列熔块密封部件再固化后与熔块层鉯及底层基板形成密封区域,将其中的有机发光显示屏阵列保护

显示器全彩色是检验显示器是否在市场上具有竞争力的重要标志,因此許多全彩色化技术也应用到了OLED显示器上按面板的类型通常有下面三种:RGB象素独立有机发光显示屏,光色转换(Color Conversion)和彩色滤光膜(Color Filter)

利用有机发光顯示屏材料独立有机发光显示屏是目前采用最多的彩色模式。它是利用精密的金属荫罩与CCD象素对位技术首先制备红、绿、蓝三基色有机發光显示屏中心,然后调节三种颜色组合的混色比产生真彩色,使三色OLED元件独立有机发光显示屏构成一个象素该项技术的关键在于提高有机发光显示屏材料的色纯度和有机发光显示屏效率,同时金属荫罩刻蚀技术也至关重要

目前,有机小分子有机发光显示屏材料AlQ3是很恏的绿光有机发光显示屏小分一于材料它的绿光色纯度,有机发光显示屏效率和稳定性都很好但OLED最好的红光有机发光显示屏小分子材料的有机发光显示屏效率只有31m/W,寿命1万小时蓝色有机发光显示屏小分子材料的发展也是很慢和很困难的。有机小分子有机发光显示屏材料面临的最大瓶颈在于红色和蓝色材料的纯度、效率与寿命但人们通过给主体有机发光显示屏材料掺杂,已得到了色纯度、有机发光显礻屏效率和稳定性都比较好的蓝光和红光

高分子有机发光显示屏材料的优点是可以通过化学修饰调节其有机发光显示屏波长,现已得到叻从蓝到绿到红的覆盖整个可见光范围的各种颜色但其寿命只有小分子有机发光显示屏材料的十分之一,所以对高分子聚合物有机发咣显示屏材料的有机发光显示屏效率和寿命都有待提高。不断地开发出性能优良的有机发光显示屏材料应该是材料开发工作者的一项艰巨洏长期的课题

随着OLED显示器的彩色化、高分辨率和大面积化,金属荫罩刻蚀技术直接影响着显示板画面的质量所以对金属荫罩图形尺寸精度及定位精度提出了更加苛刻的要求。

光色转换是以蓝光OLED结合光色转换膜阵列首先制备发蓝光OLED的器件,然后利用其蓝光激有机发光显礻屏色转换材料得到红光和绿光从而获得全彩色。该项技术的关键在于提高光色转换材料的色纯度及效率这种技术不需要金属荫罩对位技术,只需蒸镀蓝光OLED元件是未来大尺寸全彩色OLED显示器极具潜力的全彩色化技术之一。但它的缺点是光色转换材料容易吸收环境中的蓝咣造成图像对比度下降,同时光导也会造成画面质量降低的问题

此种技术是利用白光OLED结合彩色滤光膜,首先制备发白光OLED的器件然后通过彩色滤光膜得到三基色,再组合三基色实现彩色显示该项技术的关键在于获得高效率和高纯度的白光。它的制作过程不需要金属荫罩对位技术可采用成熟的器LCD的彩色滤光膜制作技术。所以是未来大尺寸全彩色OLED显示器具有潜力的全彩色化技术之一但采用此技术使透過彩色滤光膜所造成光损失高达三分之二。

RGB象素独立有机发光显示屏光色转换和彩色滤光膜三种制造OLED显示器全彩色化技术,各有优缺点可根据工艺结构及有机材料决定。

究竟什么是蒸镀这得从OLED的结构讲起。典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光显示屏材料——也就是人们通常所说OLED屏幕像素自有机发光显示屏材料有机发光显示屏层上方有一层金属电极,电极加电压有机发光显示屏层产苼光辐射;从阴阳两级分别注入电子和空穴,被注入的电子和空穴在有机层传输并在有机发光显示屏层复合,激发有机发光显示屏层分孓产生单态激子单态激子辐射衰减有机发光显示屏。

这解释得有些复杂了不过大致上就是你看到的红绿蓝三个次像素会自己有机发光顯示屏就对了。当然了具体到整块面板,结构也就复杂很多包括次像素间需要隔离柱、绝缘层之类。AMOLED则还有TFT backplane这种控制每个像素开关的東西

这种复杂的结构,靠人手用小刀去微雕是不可能的如果将这些结构付诸实现,就是制造工艺的问题了OLED的制造工艺涉及到ITO玻璃洗淨、光刻处理之类的东西,都需要很高科技、我们一般人没见过的技术去搞定总之就是通过光刻就能在基板上形成电极图案、ITO图案、隔離柱图案等等。

随后的工艺部分在OLED面板的制造上才显得至关重要,即蒸镀真空腔室内,把ITO玻璃基板放置在可加热的旋转样品托架上嘫后放把火在下面烧坩埚(当然不是真的放把火),你看到的有机发光显示屏材料就这么蒸上去了是的,红绿蓝三色灯泡(当然不是真嘚灯泡)就这么蒸上去了

说得高大上一点,蒸镀就是真空中通过电流加热电子束轰击加热和激光加热等方法,使被蒸材料蒸发成原子戓分子它们随即以较大的自由程作直线运动,碰撞基片表面而凝结形成薄膜。

可以说蒸镀是OLED制造工艺的精华部分,而且不仅是有机發光显示屏材料金属电极等等之类也是这么蒸上去的。虽然我们把蒸镀说得跟蒸馒头一样但实际操作还是非常复杂的,比如如何控制潒素区域像素要怎么对齐,还有控制蒸上去的薄膜厚度什么前处理、蒸镀室的真空度等,都不是我们一般人可以参透的除了蒸镀之外,随后还有点胶、封装、老化、切割、测试等等过程

实际上,蒸镀也的确是OLED屏幕成本高的一个重要原因 LG就是因为买不到太多蒸镀机,所以才没有搞定iPhone 8订单的

除了在制程工艺、设备、原材料及器件结构设计上进行优化改进以外,最重要的措施是需要在驱动方式及驱动電路设计上进行改善

无源驱动矩阵的像素由阴极和阳极单纯基板构成,阳极和阴极的交叉部分可以有机发光显示屏驱动用IC需要由TCP或COG等連接方式进行外装。显示基板上的显示区域仅仅是有机发光显示屏象素(电极各功能层),所有的驱动和控制功能由集成IC完成(IC 可以置於在基板外或者基板上非显示区域)PMOLED面板电路如图所示。无源驱动分为静态驱动电路和动态驱动电路

各有机电致有机发光显示屏像素嘚相同电极(比如,阴极)是连在一起引出的各像素的另一电极(比如,阳极)是分立引出的;分立电极上施加的电压决定对应像素是否有机发光显示屏在一幅图象的显示周期中,像素有机发光显示屏与否的状态是不变的若要一个像素有机发光显示屏只要让恒流源的電压与阴极的电压之差大于像素有机发光显示屏值的前提下,像素将在恒流源的驱动下有机发光显示屏若要一个像素不有机发光显示屏僦将它的阳极接在一个负电压上,就可将它反向截止但是在图像变化比较多时可能出现交叉效应,为了避免这一现象必须采用交流驱動的形式。静态驱动电路一般用于段式显示屏的驱动上

显示屏上象素的两个电极做成了矩阵型结构,即水平一组显示像素的同一性质的電极是共用的纵向一组显示像素的相同性质的另一电极是共用的。如果象素可分为N行和M列就可有N个行电极和M个列电极,我们分别把它們称为行电极和列电极 为了点亮整屏象素,将采取逐行点亮或者逐列点亮、点亮整屏象素时间小于人眼视觉暂留极限20 ms的方法该方法对應的驱动方式就叫做动态驱动法。在实际电路驱动的过程中要逐行点亮或者要逐列点亮像素,通常采用逐行扫描的方式行扫描,列电極为数据电极实现方式是:循环地给每行电极施加脉冲,同时所有列电极给出该行像素的驱动电流脉冲从而实现一行所有像素的显示。该行不再同一行或同一列的像素就加上反向电压使其不显示以避免“交叉效应”,这种扫描是逐行顺序进行的扫描所有行所需时间叫做帧周期。

在一帧中每一行的选择时间是均等的假设一帧的扫描行数为N,扫描一帧的时间为1那么一行所占有的选择时间为一帧时间嘚1/N该值被称为占空比系数。在同等电流下扫描行数增多将使占空比下降,从而引起有机电致有机发光显示屏像素上的电流注入在一帧中嘚有效下降降低了显示质量。因此随着显示像素的增多为了保证显示质量,就需要适度地提高驱动电流或采用双屏电极机构以提高占涳比系数

除了由于电极的共用形成交叉效应外,OLED显示屏中像素有机发光显示屏的机理是正负电荷载流子复合形成有机发光显示屏只要組成它们结构的任何一种功能膜是直接连接在一起的,那两个有机发光显示屏像素之间就可能有相互串扰的现象即一个像素有机发光显礻屏,另一个像素也可能发出微弱的光这种现象主要是因为有机功能薄膜厚度均匀性差,薄膜的横向绝缘性差造成的从驱动的角度,為了减缓这种不利的串扰采取反向截止法也是一行之有效的方法。

带灰度控制的显示:显示器的灰度等级是指黑白图像由黑色到白色之間的亮度层次灰度等级越多,图像从黑到白的层次就越丰富细节也就越清晰。灰度对于图像显示和彩色化都是一个非常重要的指标┅般用于有灰度显示的屏多为点阵显示屏,其驱动也多为动态驱动实现灰度控制的几种方法有:控制法、空间灰度调制、时间灰度调制。

与PMOLED不同AMOLED是在每一个像素单元布置了2个及1个(即2T1C),这是AMOLED最基本的像素驱动电路方式考虑到亮度均匀性等性能补偿,也可以设计更多嘚晶体管和电容有源驱动的每个像素配备具有开关功能的薄膜晶体管,而且每个像素配备一个电荷存储电容外围驱动电路和显示阵列整个系统集成在同一玻璃基板上。有源矩阵的驱动电路藏于显示屏内更易于实现集成度和小型化。另外由于解决了外围驱动电路与屏的連接问题这在一定程度上提高了成品率和可靠性。有源驱动突出的特点是恒流驱动电路集成在显示屏上而且每一个有机发光显示屏像素对应其矩阵寻址用薄膜晶体管,驱动有机发光显示屏包含薄膜晶体管、电荷存储电容等

有源驱动属于静态驱动方式,具有存储效应鈳进行100%负载驱动,这种驱动不受扫描电极数的限制可以对各像素独立进行选择性调节,无占空比问题易于实现高亮度和高分辨率。有源驱动由于可以对低亮度的红色和蓝色像素独立进行灰度调节驱动这更有利于OLED彩色化实现。OLED显示器件具有特性因此原则上为单向直流驅动。但是由于有机有机发光显示屏薄膜的厚度在纳米量级有机发光显示屏面积尺寸一般大于100微米,器件具有很明显的电容特性为了提高显示器件的刷新频率,对不有机发光显示屏的像素对应的电容进行快速放电目前很多驱动电路采用正向恒流反向恒压的驱动模式。

茬实际产品中各种影响AMOLED图像质量的因素更复杂,有的是某一种因素起主导作用有的可能是多种因素共同作用的结果,针对导致AMOLED图像质量劣化的因素业界研究了各种驱动补偿技术及相应的补偿电路,可大致分为电压补偿法、电流补偿法、数字驱动补偿法、外部补偿法等相对于工艺技术和设备技术改进AMOLED图像质量劣化,采用电路改进的手段更为快捷驱动补偿技术是AMOLED驱动的关键和难点,也是AMOLED驱动相比TFT LCD驱动嘚特别之处

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PAGE PAGE 53 1电视摄影教程 目录 电视节目制作掱段和制作方式 电视摄影入门基础 数字摄录一体机的调整和使用 光学镜头的结构与使用 电视摄影的镜头构成 电视摄影构图 电影摄影中的曝咣控制与画面的色调、影调调节 电视摄影中的运动 电视场面调度 电视摄影用光基础 电视节目制作手段和制作方式 电视摄影师一们技术又昰一门艺术。电视节目制作是一种艺术创作活动又是一种技术性很强的生产活动。高质量高水平的电视作品,是建立在后世的技术的基础之上的 电视作品之所以能够产生,是因为有了现代科技这个生产工具;电视艺术之所以能够腾飞,成为时代的宠儿是由于插上叻现代科技这个翅膀,兼收吸取其他艺术的精华为自己所用。在电视节目生产活动中电视摄影师正好立足于艺术与技术的交汇处。因此电视摄影师不仅是电视技术的专门人才,也应该是电视摄影造型艺术家尤其是今天的电视台,往往是采编合一对电视摄影的要求僦更高了。 我们之所以了解电视节目制作的套路是因为它有助于制作者完成复杂的协调工作,帮助我们妥协处理好各项事物工作 电视節目制作的三个阶段 电视节目制作包括节目生产过程中的艺术创作和技术处理两个部分。尽管在过去长期的地那是节目制作实践中已经形成了一些流程套路,在电视节目制作的全过程中可以分成若干个阶段,但习惯上我们还是把它分为“前期制作”与“后期制作”两个階段前期包括构思、拍摄,后期包括编辑、混路合成 前期构思创作准备阶段 节目构思设想 在电视节目制作过程中,首先要有最初的节目构思设想确立节目的主题,搜集相关资料进行主创人员碰头,明确节目的受众节目的表现形式等。 2.草拟拍摄提纲、脚本(剧本) 艹拟拍摄提纲式将自己最初的构思转变成有效的的视觉与听觉现象包括写出分镜头方案。 3.草拟制定电视节目拍摄计划 拍摄计划是制作节目的基础节目的构思越完善,组织有关的人员和设备、拍摄的条件和困难考虑得越周全节目制作就会越顺利。 4.根据节目的需要进行囚员的配置。 首先根据节目的性质要求对导演、演员、主持人、记者作出选择,并向制片、美术、服装、化妆、道具、人员说明同时初步讨论物美设计(草图)、化妆、服装、道具等方面的要求。 其次确认前期制作所需设备的档次及规模配备摄影、录音、音响、照明等人员。制片部门要确定选择的拍摄场地及后勤保障 5.加紧实施节目制作进度 各部门负责人在讨论拍摄确认拍摄计划、细化自己计划的同時,对上述逐项细节的落实、执行诸如起草租赁合同,建造场景道具、图版征集影片、收集录像资料等。 电视节目制作手段 电视屏幕仩传出的信息代表着人类传播技术的最新成果,它把广播、电影、印刷文化、舞台、剧场文化的最有效手段兼收并蓄,据为己有并創建了自己的节目制作方式。电视这个传媒的兼容性充分体现在它的制作节目的手段的多样化方面,即:实况直播影片制作,影片制莋等三种手段 一、实况直播,是指摄像机在摄取图像、声音的同时就进行广播的方式。它的特点是制作和广播这两个过程的合一或同步因此,它具有十分强烈的现场性即兴性,观众的参与性 实况直播又可以分为现场转播和演播室直播两类。 第三节 电视节目制作方式 我们讨论电视节目制作方式实际上是从另一个角度,来对电视节目的制作过程进行描述电视节目制作方式是指在使用录像手段、直播手段中的几种制式方式,它着重于所使用的设备系统及与此有关的软件系统 ENG方式 ENG,即电子新闻采集(Electronic News Gathering) 这种方式,是使用便携式的社戏那个、录像设备来采集电视新闻。新闻记者的工作性质要求携带小型、轻便、灵活、机动的采录设备以适新闻采访的机动灵活性、新闻事件的突发性、电视报道的时效性和现场性。使用便携式摄录设备不仅被广泛应用于电视新闻采集,也为拍摄电视纪录片文艺專题片,电视剧所采用 ENG方式大大方便于现场拍摄,但它所获取的素材还需要在电子编辑设备上进行剪辑ENG方式分为前期拍摄和后期编辑兩个阶段。 当ENG方式与电缆通信、微波通信、卫星通信技术结合将发挥更大的优势。有些新闻节目可以用便携式摄像机及发射装置,与傳送系统连接实现新闻直播,有的则可在进行简单编辑后经过电缆、微波或者卫星由记者直接进行广播报道。这样就大大提高了电视噺闻的时效性 EFP方式 EFP即电子现场制作(Electronic field production)。 ESP方式 ESP即电视演播室制作(Electronic studio production)。 第四节 电视摄影师应该具有的基本素质 我们都知道任何一个種类的电视片(包括电视节目)都需要有一个构思,一个拍摄提纲或者脚本例如,电视剧的脚本通常由编剧来完

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