高处溅射靶材应该太高还是压低

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射击靶子最高环数是多少
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分两种一种是资格赛(只有你在资格赛中排名在前8以内才可以进决赛) 一种是决赛在资格赛中最高环数是十环只要压线就算10在决赛中因为对手实力相当很难分出高低所以采用计算小数点的方式所以如果像上述中所说的压线10的话可能计算出来就10.3 10.2 ...所以在决赛中最高环数是10.9环
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一种高功率磁控溅射靶
申请(专利)号:
申请日期:
公开(公告)日:
公开(公告)号:
主分类号:
C23C14/35,C23C14/00,C,C23,C23C,C23C14
C23C14/35,C23C14/00,C,C23,C23C,C23C14,C23C14/35,C23C14/00
申请(专利权)人:
宁波英飞迈材料科技有限公司
发明(设计)人:
徐子明,闫宗楷,向勇
主申请人地址:
315040 浙江省宁波市高新区聚贤路1299号
专利代理机构:
宁波诚源专利事务所有限公司 33102
刘凤钦,王莹
国别省市代码:
一种高功率磁控溅射靶,包括靶材(1)、设置在靶材(1)背部的靶背板(2)、极靴(6)、设置于靶背板(2)和极靴(6)之间的且间隔设置的多个永磁体(3),多个所述永磁体(3)的N、S极相间分布,其特征在于:还包括软磁体(5)和隔离板(4);所述隔离板(4)为非导磁材料制成的隔离板(4),所述隔离板(4)设置于永磁体(3)的上方;每个永磁体(3)的上方对应设置有一软磁体(5),所述软磁体(5)设置于所述隔离板(4)和靶背板(2)之间,相邻两个软磁体(5)间的空隙及最外侧的两个软磁体外侧的间隙即形成供冷却水流通的冷却水通道(7)。
法律状态:
授权,授权
相关检索词
万方数据知识服务平台--国家科技支撑计划资助项目(编号:2006BAH03B01)(C)北京万方数据股份有限公司
万方数据电子出版社}

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